RestekはJASIS 2021とJASIS WebExpo新技術説明会に出展します。
展示会場
幕張メッセ 国際展示場
(ブースNo. 6A-608)
新技術説明会会場
幕張メッセ 国際会議場内(部屋番号. 104)
Restekの新技術説明会講演内容についての詳細は下記をご覧ください。
新技術説明会の詳細はこちら
Restek新技術説明会:
3日目 11月10日(水)
部屋番号. 104, 13:05-13:30
カラム変更だけでGCMSの高速分析を実現
ー分析業務の効率化!Low Pressure GCカラムで分析時間を1/3にー
Low Pressure GCはMSの真空を利用して分析時間を短縮する手法で、従来のFast GCとは異なり負荷量や水素キャリアガスの問題を克服することが可能である。日本電子(株)様からの実データ紹介も交えての講演となります。
WebExpoの詳細はこちら
WebExpo2021-2022新技術説明会
公開はJASISの会期終了後となります
GCライナーを正しく選択して、トラブルを未然に防ぐポイント
適切な注入法とライナー選択は、目的化合物に悪影響を及ぼすことなくサンプルが効率的にカラムへ移送されるためには不可欠です。注入方法に適したライナーの選び方と不活性度に優れるTopazライナーを紹介いたします。
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JASIS2021-JP
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